光刻胶 深圳 光刻胶涂布配方分析

配方还原是指通过多种分离和分析方法的联合运用，对样品中的各组分进行定性和定量分析，通过各类分析谱图（光谱、色谱、质谱、能谱、热谱）的精准数据比对与分析，从而获得其精准原始配方的过程，是产品开发的反过程。也称之为逆向工程。

配方还原可以帮您解决：

1、用于产品开发，光刻胶涂布配方分析，可以缩短研发周期，降低风险。

2、分析业内gao端产品配方，指导配方改进，工艺优化，加快自身摸索进度。

3、获得基本配方，微调后，光刻胶，实现模仿生产的目的。

4、工业问题诊断，早时间内找出根源。

       配方检测这个术语在材料科学特别是商品生产领域中已广泛使用。利用配方检测技术注视和跟踪本行业的新研究成果与发展动态，获得本行业的先进技术资料，以提供准确的科技情报与市场信息，是国内外许多产业的开发研究系统的重要组成部分。随着现代化学相关理论、技术和仪器的迅猛发展，利用现代化学分析技术方法（光谱、色谱、质谱、能谱、热谱）结合实验室常规分析方法可对市面上的产品进行剖析，以辅助客户优化本司产品。

我们光刻胶配方还原的优势：

<1>行业内先进技术水平，有举足轻重的地位。

<2>有丰富的技术经验，能够成功的为客户解决难题。

<3>我们先进的分析仪器：红外光谱仪、NMR分析、GC-MS气质联用仪、TGA热重分析仪、气相色谱仪（GC）、液相色谱仪（LC）、X荧光光谱等。

如果您对我们的光刻胶剂配方还原有兴趣或者任何的疑问，欢迎随时电话与我们联系。

禾川化学重点分析范围：

精细化工：清洗剂配方、金属表面处理剂配方、金属加工液配方、纺织印染助剂配方、水处理配方、造纸化学品配方、建筑助剂配方、皮革化学品配方、电子化学品配方、其他助剂配方

高分子材料：胶黏剂配方、橡胶配方、塑料配方、油墨配方、涂料配方、其他配方

如果您有时间，欢迎来我公司实地考察。我们将及时派遣具有丰富专业知识或操作技能的人员与您亲切洽谈，我们诚心随时欢迎您的到来！